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TDM系列HMDS預(yù)處理真空干燥箱

簡要描述:TDM系列HMDS預(yù)處理真空干燥箱,又稱真空鍍膜干燥箱,是一種專用于半導(dǎo)體、光電、微電子等領(lǐng)域中光刻前處理工藝的專用設(shè)備。其主要功能是在真空環(huán)境下將六甲基二硅氮烷(HMDS, Hexamethyldisilazane)以蒸汽形式沉積于基材表面,從而改善基材表面親水性,提高光刻膠與基底的附著力,確保后續(xù)微圖形工藝的質(zhì)量與穩(wěn)定性,喆圖預(yù)處理真空干燥箱適用于 1-12 英寸半導(dǎo)體晶圓(硅基、碳化硅、氮化

  • 產(chǎn)品型號(hào):
  • 廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
  • 更新時(shí)間:2025-11-18
  • 訪  問  量:2177

詳細(xì)介紹

品牌DRETOP/喆圖價(jià)格區(qū)間面議
產(chǎn)地類別國產(chǎn)應(yīng)用領(lǐng)域綜合

TDM系列HMDS預(yù)處理真空干燥箱,又稱真空鍍膜干燥箱,是一種專用于半導(dǎo)體、光電、微電子等領(lǐng)域中光刻前處理工藝的專用設(shè)備。其主要功能是在真空環(huán)境下將六甲基二硅氮烷(HMDS, Hexamethyldisilazane)以蒸汽形式沉積于基材表面,從而改善基材表面親水性,提高光刻膠與基底的附著力,確保后續(xù)微圖形工藝的質(zhì)量與穩(wěn)定性,喆圖預(yù)處理真空干燥箱適用于 1-12 英寸半導(dǎo)體晶圓(硅基、碳化硅、氮化鎵等)、MEMS 傳感器基板、LED芯片襯底、光學(xué)鏡片等高精度元件的預(yù)處理,覆蓋集成電路制造、先進(jìn)封裝、光電器件生產(chǎn)、高??蒲械葓鼍?。

產(chǎn)品特點(diǎn)

技術(shù)特點(diǎn)

TDM系列HMDS預(yù)處理真空干燥箱采用高效真空系統(tǒng),確保HMDS處理在穩(wěn)定、無氧、低濕環(huán)境中進(jìn)行,避免水汽干擾;

②支持硅片、玻璃片、藍(lán)寶石、ITO基板等材料的預(yù)處理,可根據(jù)客戶需求定制托盤、樣品架;

③腔體采用耐HMDS腐蝕的不銹鋼材質(zhì),防止氣體殘留腐蝕設(shè)備,冷凝系統(tǒng)處理完畢后可自動(dòng)排放或冷凝未反應(yīng)的HMDS蒸氣,保護(hù)環(huán)境和人員安全;

智能操控

①觸摸屏控制系統(tǒng),可根據(jù)不同制程條件改變程序、溫度、真空度及每一程序時(shí)間;

PLC控制系統(tǒng)具有自動(dòng)控溫、任意定時(shí)、超溫報(bào)警等,彩色觸摸屏顯示,控溫準(zhǔn)確可靠;

③具有溫控模塊,腔體加熱與基材加熱溫度均勻,確保HMDS蒸氣均勻分布并穩(wěn)定沉積;

匠心工藝

①采用鋼化玻璃觀察窗,監(jiān)測(cè)方便,一體成型的硅橡膠門封,確保箱內(nèi)密封性好;

②腔體呈立方體或長方體,棱角分明,直角設(shè)計(jì)增強(qiáng)抗壓性能,內(nèi)部空間利用率高;

③低真空鍍膜工藝的密閉腔體結(jié)構(gòu),真空環(huán)境可控,確保鍍膜過程無污染、無泄漏;

承載均勻涂布與多工藝集成,支持蒸發(fā)、濺射、MBE、PLD等多工藝模塊的智能融合;

采用鋼化玻璃觀察窗,監(jiān)測(cè)方便,內(nèi)膽不銹鋼,無易燃易爆裝置,無發(fā)塵材料,一體成型的硅橡膠門封,確保箱內(nèi)密封性好;

提供單腔、雙腔、四腔等多規(guī)格腔體設(shè)計(jì)(四腔機(jī)型支持獨(dú)立控溫與工藝,產(chǎn)能提升4 倍)可根據(jù)客戶產(chǎn)能需求定制腔體尺寸與處理容量;

 

 

 

應(yīng)用場景

半導(dǎo)體制造

1.工藝可控域:精密調(diào)控溫度場、壓力梯度等;

2.技術(shù)覆蓋域:兼容多種鍍膜技術(shù),適配多樣化生產(chǎn)。

光學(xué)器件鍍膜

1.光學(xué)鏡頭抗反射膜(AR)、紅外濾光片多層膜;

2.激光器腔鏡高反射膜(HR)、分光膜。

新能源與新材料

1.鈣鈦礦太陽能電池電極層(ITO/Ag)沉積;

2.柔性顯示面板(OLED)透明導(dǎo)電膜(AZO)鍍制。

 

工藝適配

工藝類型

物理氣相沉積(PVD):磁控濺射、電弧離子鍍、電子束蒸發(fā);

化學(xué)氣相沉積(CVD):等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積(PECVD)。

鍍膜材料

金屬(Al、Cu、Ag)、氧化物(Al2O3 、TiO2)、氮化物(TiNSiN)等。

 

 

 

典型應(yīng)用

 

半導(dǎo)體代工

應(yīng)用場景:3nm邏輯芯片金屬互聯(lián)層沉積;

客戶價(jià)值:提升芯片良率15%,降低電遷移失效風(fēng)險(xiǎn)。

光學(xué)鏡頭制造

應(yīng)用場景:8K超高清鏡頭抗反射膜鍍制;

客戶價(jià)值:反射率<0.1%,透光率>99.5%(400-700nm波段)

鈣鈦礦光伏

應(yīng)用場景:大面積鈣鈦礦電池電極層連續(xù)鍍膜;

客戶價(jià)值:電池轉(zhuǎn)換效率突破26%,成本降低30%。

航空航天

應(yīng)用場景:衛(wèi)星光學(xué)載荷耐輻射保護(hù)膜沉積;

客戶價(jià)值:通過ISO-15860空間環(huán)境模擬認(rèn)證。

技術(shù)參數(shù)

型號(hào)

TDM-64V

TDM-90V

TDM-125V

TDM-215V

電源電壓

AC 220V 50Hz

控制系統(tǒng)

PLC智能控制

儀表控制

彩色觸摸屏

控溫范圍

RT+10-200

溫度分辨率

0.1

溫度波動(dòng)度

±0.1

真空度

133pa

內(nèi)膽尺寸

400*400*400

450*450*450

500*500*500

550*550*650

容積

64L

90L

125L

210L

載物托架

2

2

3

3

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