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LX系列低溫冷卻循環(huán)泵

簡要描述:LX系列低溫冷卻循環(huán)泵實驗室循環(huán)機包含多款設備,主要有冷卻循環(huán)水機、低溫冷卻循環(huán)泵、低溫反應浴、高低溫循一體機。內置高效循環(huán)泵系統(tǒng),驅動冷卻介質(如水、乙二醇溶液、特殊冷媒)在閉環(huán)管路中流動,實現持續(xù)穩(wěn)定的熱量交換,該循環(huán)設備是一款集成高效制冷、精準溫控與循環(huán)的設備,可廣泛應用于超導材料測試、半導體制造、生物樣本凍存、半導體激光器冷卻及工業(yè)反應釜恒溫等場景,是科研實驗、化學化工、生物制藥、物理實驗

  • 產品型號:
  • 廠商性質:生產廠家
  • 更新時間:2025-11-20
  • 訪  問  量:870

詳細介紹

品牌DRETOP/喆圖應用領域食品/農產品,化工,生物產業(yè),鋼鐵/金屬,制藥/生物制藥

用途概述

LX系列低溫冷卻循環(huán)泵實驗室循環(huán)機包含多款設備,主要有冷卻循環(huán)水機、低溫冷卻循環(huán)泵、低溫反應浴、高低溫循一體機。內置高效循環(huán)泵系統(tǒng),驅動冷卻介質(如水、乙二醇溶液、特殊冷媒)在閉環(huán)管路中流動,實現持續(xù)穩(wěn)定的熱量交換,該循環(huán)設備是一款集成高效制冷、精準溫控與循環(huán)的設備,可廣泛應用于超導材料測試、半導體制造、生物樣本凍存、半導體激光器冷卻及工業(yè)反應釜恒溫等場景,是科研實驗、化學化工、生物制藥、物理實驗、醫(yī)藥衛(wèi)生、食品、冶金、大專院校、科研院所等設備,為科研實驗、與工業(yè)用戶提供穩(wěn)定、安全的一站式溫控解決方案。

產品特點

匠心工藝

LX系列低溫冷卻循環(huán)泵采用PID恒溫控制系統(tǒng),內置高精度傳感器,響應快,恒溫波動小,溫度均勻可靠;

標配RS485通訊接口,便于連接電腦,方便查詢歷史數據和歷史曲線,并記錄溫度和時間數據;

內膽及臺面均采用優(yōu)質不銹鋼,無熱量離心循環(huán)泵可避免水泵因自身熱量而影響槽內溶液溫度。

功能特點

※水槽及管路采用封閉式結構,避免冷卻液污染和氧化;

出水接口采用不銹鋼材質,可配多種接頭或軟管,外接閉路循環(huán),經久耐用;

采用精密溫度控制器,可設定恒溫、低溫、不間斷循環(huán)等多種功能,可快速降溫;

升級優(yōu)化制冷系統(tǒng)和泵循環(huán)系統(tǒng),溫度均勻且制冷效率快,適合長時間連續(xù)工作。

加熱制冷

※電加熱管輔助升溫 :循環(huán)介質快速均勻加熱,升降溫速率快,溫度均勻可靠;

※變頻壓縮機制冷 :多次升級優(yōu)化制冷系統(tǒng),噪音低、效率高,電機功率隨負荷自動調節(jié);

※雙模式循環(huán) :內置品牌磁力泵,外接循環(huán)管路,支持機內密閉循環(huán)或機外第二恒溫場建立,適配反應釜、鍍膜設備等間接控溫。

安全可靠

※多重防護機制 :超溫/漏液/短路/壓力/水位報警,斷電記憶功能,IP54防護等級;

※工業(yè)級耐用結構:防低溫液體污染設計,適配高純金屬提純、真空鍍膜等嚴苛場景;

※防污染循環(huán)系統(tǒng) :采用耐腐蝕、防氧化的不銹鋼管路及接口,導熱介質密閉循環(huán),無污染消耗。

反應浴槽

※標配固定桿,可方便頂置式攪拌器、滴定管、傳感器等配套裝置的安裝固定(僅LXLF系列);

※可選配二級電動攪拌裝置,與反應容器內的攪拌子一起,使試料的溫度保持均勻一致(選配);

攪拌速度可調,可在較低到較高的溫度之間進行精確控溫,滿足不同反應實驗,槽內介質通過磁力攪拌均勻流動,可使受試溶液溫度均勻。

對比維度

冷卻循環(huán)水機(LC系列)

低溫循環(huán)泵(LX系列)

低溫反應浴(LF系列)

高低溫循環(huán)一體機(HLX系列)

 

功能特點

滿足設備散熱需求,成本低、操作簡單,無法低于 5,無深度制冷

給其他設備降溫,提供低溫流 體,適配外接設備控溫。無反 應容器,無法直接承載反應

低溫反應,自帶反應槽和磁力攪拌功能,無需外接管路,可直接放入反應體系

兼具低溫控溫"和高溫控溫能力,可實現全溫域下的控溫反應,定制自帶浴槽可直接承載反應

溫控范圍

5~100℃(無低溫功 能)

低溫為-10℃到 -120℃之間,高溫<100

低溫為-10℃到-120℃之間,溫度<100

乙醇、硅油、導熱油等(根據溫度范圍適 配,兼顧低溫防冰與高溫穩(wěn)定)

循環(huán)介質

自來水或去離子水

乙醇、乙二醇溶液等有機溶劑 (防低溫結冰)

乙醇、硅油等有機溶劑(防低溫結 冰,適配浴槽反應)

低溫為 -10℃到 -120℃之間,高溫<100

易混淆場景

ICP 光譜儀用25℃冷卻水降溫,如錯選低溫循 環(huán)泵則過度浪費,因無需低溫

旋蒸儀冷凝-20℃低沸點溶

劑,如錯選冷卻循環(huán)水機,則 無法達到-20℃低溫要求

50mL格氏反應(需 - 30),如 錯選低溫循環(huán)泵,則需額外搭配夾套,操作繁瑣

-20℃反應,再120℃回流的合成實驗,如錯選低溫反應浴,則無法升溫至120,滿足回流需求

應用場景

儀器散熱(如ICP光譜儀、激光器、真空泵)

1、為旋蒸儀的冷凝管提供低溫流體,提高溶劑冷凝效;

2、為電泳儀、色譜柱的控溫模塊輸送低溫流體,穩(wěn)定儀器工作溫度;

3、為外接的反應瓶夾套提供低溫,實現反應體系的低溫控制

1、小劑量有機合成反應(如格氏反應、低溫氧化還原反應),直接 將反應瓶浸入浴槽的低溫介質中;

2、樣品的低溫保存、低溫穩(wěn)定性測試(將樣品直接放入浴槽中保溫)

1、需要先低溫反應(如-20)、再升溫回流(如80)的合成實驗(無需換設備,直接調溫

2、材料的高低溫性能測試(如從 -40℃到200℃的熱穩(wěn)定性測試)

3、為大型反應釜(無法放入浴槽)提供高溫、低溫循環(huán)流體,實現大體積體系的控溫

 

技術參數

低溫冷卻循環(huán)泵

產品型號

控溫范圍

容積

控溫精度

泵流量

揚程m

電源

開口直徑

LX5-10

-10~100

5L

0.1

20L/min

4-6m

220V 50Hz

Φ210mm

LX5-20

-20~100

LX5-30

-30~100

LX5-40

-40~100

LX5-60

-60~100

LX5-80

-80~100

LX5-120

-120~100

LX10-10

-10~100

10L

0.1

20L/min

4-6m

220V 50Hz

Φ250mm

LX10-20

-20~100

LX10-30

-30~100

LX10-40

-40~100

LX10-60

-60~100

LX10-80

-80~100

LX10-120

-120~100

LX20-10

-10~100

20L

0.1

20L/min

4-6m

220V 50Hz

Φ285mm

LX20-20

-20~100

LX20-30

-30~100

LX20-40

-40~100

LX20-60

-60~100

LX20-80

-80~100

LX20-120

-120~100

LX30-10

-10~100

30L

0.1

35L/min

4-6m

220V 50Hz

Φ285mm

LX30-20

-20~100

LX0-30

-30~100

LX30-40

-40~100

LX30-60

-60~100

LX30-80

-80~100

LX30-120

-120~100

LX40-10

-10~100

40L

0.1

45L/min

6-8m

380V 50Hz

Φ360mm

LX40-20

-20~100

LX40-30

-30~100

LX40-40

-40~100

LX40-60

-60~100

LX40-80

-80~100

LX40-120

-120~100

LX50-10

-10~100

50L

0.1

45L/min

6-8m

380V 50Hz

Φ360mm

LX50-20

-20~100

LX50-30

-30~100

LX50-40

-40~100

LX50-60

-60~100

LX50-80

-80~100

LX50-120

-120~100


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